光譜反射式膜厚、折射率測(cè)量?jī)x器是***種利用光譜反射原理來(lái)測(cè)量薄膜厚度和折射率的設(shè)備。反射測(cè)量是通過(guò)分析從單層或多層薄膜結(jié)構(gòu)反射回來(lái)的光強(qiáng)變化，來(lái)確定薄膜的厚度。在這個(gè)過(guò)程中，入射光以垂直的角度照射到樣品表面。由于界面之間的干涉效應(yīng)，反射光譜會(huì)發(fā)生變化，這些變化可以用來(lái)計(jì)算薄膜的厚度，無(wú)論是在透明、部分透明還是完全反射的基板上。入射到樣品表面的光經(jīng)薄膜上下表面多次干涉后從樣品表面出射，經(jīng)過(guò)光譜儀的采集，得到出射光光強(qiáng)，出射光光強(qiáng)與入射光光強(qiáng)之比值即為薄膜的反射率（），此反射率表現(xiàn)為波長(zhǎng)的函數(shù)，得到反射率曲線。
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、平板顯示、光學(xué)鍍膜、太陽(yáng)能電池等。中，反射式膜厚測(cè)量?jī)x可以用于測(cè)量晶圓上的薄膜厚度，如二氧化硅、氮化硅等，以確保半導(dǎo)體器件的性能和可靠性。中，反射式膜厚測(cè)量?jī)x可以用于測(cè)量液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管等的薄膜厚度，以確保顯示效果和質(zhì)量。中，反射式膜厚測(cè)量?jī)x可以用于測(cè)量光學(xué)鏡片、濾光片等的薄膜厚度，以確保光學(xué)性能和質(zhì)量。中，反射式膜厚測(cè)量?jī)x可以用于測(cè)量太陽(yáng)能電池板上的薄膜厚度，如氮化硅、氧化鋁等，以確保太陽(yáng)能電池的效率和可靠性。晶諾微 Quasar R100是***款體積小巧的光譜反射式膜厚、折射率測(cè)量?jī)x器，操作簡(jiǎn)單，極易上手。Quasar R100軟件還擁有豐富的的材料數(shù)據(jù)庫(kù)，客戶還可以通過(guò)軟件及自帶數(shù)據(jù)庫(kù)對(duì)材料，菜單進(jìn)行管理，并具有豐富的數(shù)據(jù)查看、統(tǒng)計(jì)功能。
可測(cè)量如4-12英寸的晶圓及其他各種不規(guī)則形狀樣品；
b．測(cè)量精度和穩(wěn)定性高：可測(cè)量材料厚度、折射率、吸收系數(shù)和反射率等；d．操作簡(jiǎn)單且功能豐富：產(chǎn)品規(guī)格：
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