Helios NanoLab 450 雙束掃描電鏡是***款先進(jìn)的設(shè)備，專為半導(dǎo)體失效分析、工藝開(kāi)發(fā)和工藝控制實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)。以下是***些關(guān)鍵特性：

1. 高分辨率成像與分析：Helios NanoLab 450 系列系統(tǒng)結(jié)合了創(chuàng)新的Elstar電子柱和UC技術(shù)，提供了亞納米***的SEM和STEM圖像分辨率。這使得設(shè)備能夠提供高對(duì)比度的高分辨率成像，這對(duì)于半導(dǎo)體失效分析至關(guān)重要。

2. 雙束技術(shù)：該系統(tǒng)結(jié)合了SEM（掃描電子顯微鏡）和FIB（聚焦離子束），能夠進(jìn)行高質(zhì)量的成像和快速、精確的銑削與沉積。

3. 快速、精確的樣品制備：Helios NanoLab 450S特別適合高通量、高分辨率的STEM樣品制備、成像和分析。其獨(dú)有的FlipStage和原位STEM探測(cè)器可以在幾秒鐘內(nèi)將樣品從制備狀態(tài)翻轉(zhuǎn)到STEM成像狀態(tài)，無(wú)需破壞真空或暴露樣品于環(huán)境中。

4. 先進(jìn)的離子柱技術(shù)：Tomahawk離子柱結(jié)合了高分辨率和出色的低電壓性能，不僅能夠?qū)崿F(xiàn)***的離子圖像分辨率，還提供了精確的離子銑削，幫助確保在橫截面操作中不會(huì)破壞寶貴的缺陷信息。

5. 自動(dòng)化操作：該系統(tǒng)提供了自動(dòng)化的設(shè)置和操作，簡(jiǎn)化了使用流程，減少了培訓(xùn)需求，并***大化了設(shè)備的使用效率，降低了擁有成本。

6. 廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域：Helios NanoLab 450 雙束掃描電鏡適用于材料科學(xué)、微電子和半導(dǎo)體、汽車(chē)、實(shí)驗(yàn)室測(cè)試設(shè)施、顯微鏡實(shí)驗(yàn)室、機(jī)床制造商、鋼鐵工業(yè)、能源存儲(chǔ)和太陽(yáng)能材料工業(yè)、文化遺產(chǎn)檢查、能源和石化公司等多個(gè)領(lǐng)域。

7. 提高生產(chǎn)效率：通過(guò)提供更快、更好的圖像，Helios NanoLab 450 F1能夠減少開(kāi)發(fā)成本，加速工藝提升，并更快地將新產(chǎn)品推向市場(chǎng)。

8. 先進(jìn)的STEM探測(cè)器：新的STEM探測(cè)器提供了更高的分辨率和更好的材料對(duì)比度，使得操作者能夠精確知道樣品何時(shí)足夠薄，有時(shí)甚至可以完全消除對(duì)獨(dú)立TEM分析的需求

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