日本JEOL 離子切片儀
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日本JEOL 離子切片儀 EM-09100IS
用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統制備工具快速、簡單。低能量、低角度(0°到6°)的氬離子束通過遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質量也極好,對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
· 產品規格
| EM-09100IS | |
離子加速電壓 | 1 ~ 8kV | |
傾斜角 | Up to 6°(0.1°/步) | |
離子束直徑 | 500μm(FWHM) | |
Milling rate | 5m/min (加速電壓:8 kV, Si換算) | |
使用氣體 | 氬氣 | |
樣品尺寸 | 2.8mm(長度)×0.5 mm(寬度)×0.1mm(厚度) | |
壓力測試 | 潘寧規 | |
主抽真空系統 | 渦輪分子泵 | |
CCD相機 | 內置 | |
尺寸 重量 | 主機 | 500mm(W)×600mm(D)×542mm(H)、63kg |
機械泵 | 150mm(W)×427mm(D)×230.5mm(H)、16kg | |
液晶顯示器 | 326mm(W)×173mm(D)×380mm(H)、3.7kg |
· 安裝條件
| EM-09100IS |
電源 | 單相, AC100 ~ 120V, 50/60Hz, 500 ~ 600VA |
接地線 | 獨立地線(100Ω以下) |
氬氣 | 使用壓力: 0.15±0.05MPa(1.0 ~ 2.0kg/cm2) |
室溫 | 20 ~ 25℃(fluctuation: 1°C/hor less變動少于1°C/h) |
濕度 | 60% 以下 |
· *請提供安放設備的桌子。
· *產品外觀及技術規格可能未經預告而有所變更。
產品特點:
· 用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創新方法
· 離子切片儀制備薄膜樣品除了需要將樣品切成矩形薄片外,不需要溶劑或化學試劑及前處理(打磨或凹坑研磨),比傳統制備工具快速、簡單。低能量、低角度(0°到6°)的氬離子束通過遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質量也極好,對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
· 主要特點:
· 高質量的透射電鏡樣品的前處理
· 快速制備
· 無需復雜的前處理
· *小限度的表面損傷