德國(guó) Sentech 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號(hào)：RIE SI591
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1565
400-006-7520
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| ENTECH RIE SI591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
商品描述：
RIE SI591；兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；SENTECH控制軟件； Process flexibility工藝靈活性
反應(yīng)離子刻蝕機(jī) SI 591系列兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝。
Small footprint ａnd high modularity設(shè)備小型化和高度模塊化
Si591系列可設(shè)置為單腔系統(tǒng)或帶盒式裝片的多腔系統(tǒng)。
SENTECH control software SENTECH控制軟件
控制軟件包括模擬用戶界面，參數(shù)窗口，工藝程序編輯器，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
SI 591的真空裝載片裝置和完全由計(jì)算機(jī)控制工藝條件的軟件系統(tǒng)，使其具優(yōu)良的工藝重復(fù)性。靈活、模塊化和小型化是SI591系統(tǒng)的設(shè)計(jì)特點(diǎn)，能容納200mm（8跡┑難坊蛟仄獺
SI591系統(tǒng)通過(guò)不同選件可實(shí)現(xiàn)穿墻安裝或*小占地面積。
大觀察窗位于上電極頂部，反應(yīng)器能方便的容納SENTECH激光干涉儀或者OES、RGA系統(tǒng)。用SENTECH橢偏儀可以在設(shè)備上通過(guò)橢偏儀端口進(jìn)行在線工藝監(jiān)控。
SI591系統(tǒng)沿承了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)，刻蝕過(guò)程全部由計(jì)算機(jī)控制，可以進(jìn)行多種材料的刻蝕。SENTECH還可提供多種自動(dòng)化配置，從真空盒式裝片到*多六個(gè)端口的沉積刻蝕多腔系統(tǒng)，用以提高設(shè)備的靈活性和產(chǎn)能。SI591也可以作為多腔系統(tǒng)的模塊組成部分。
SI 591 compact
• RIE plasma etcher with small footprint
• Loadlock
• Halogen ａnd fluorine chemistry
• For up to 200 mm wafers
• Diagnostic windows for laser interferometer ａnd OES
SI591 Cluster
• Configurations of up to 6-port transfer chamber available
• Combination of RIE, ICP-RIE, ａnd PECVD
• Manual vacuum loadlock or cassette station
• Cluster for R & D ａnd high throughput
• SENTECH control software | |
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滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
