| 超高真空多腔體電子束蒸鍍系統 磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、鍍膜、約瑟夫森結、超導、量子器件、量子比特、 多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system Evaporation system、Nb-based superconductor、超導鋁結、Josephson junction 品牌：PLASSYS 型號：MEB 550SL3 產地：歐洲 法*** 應用：約瑟夫森結（Al, Nb, NbN, NbTiN） 
超高真空多腔體電子束蒸發鍍膜儀 電子束蒸鍍儀是納米器件制備中必不可少的儀器，用于蒸鍍各種高純金屬薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。電子束蒸發沉積法可在同***蒸發沉積裝置中安裝多個坩堝，使得可以蒸發和沉積多種不同的高質量金屬薄膜。開展量子計算機實驗研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導量子結，量子點電子自旋的研究，均需要蒸鍍各種高質量金屬薄膜來制備量子器件，特別是在利用超導量子結來實現量子計算的實驗研究中，Josephson結的制備*為關鍵：需要在非常干凈的蒸鍍腔里進行，而且需要在不同的角度上蒸鍍兩次，兩次之間需要注入氧氣進行金屬氧化。所以樣品臺必須具有三維的旋轉功能，同時，蒸鍍腔內還需要有可以注射氧氣及其他氣體來實現清潔和氧化過程。 推薦配置：可以用于沉積Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金屬及氧化物薄膜，目前全球主要超導量子實驗室均使用該設備制備超導Al結（量子比特和約瑟夫森結）和量子器件，可以制備大面積、高度穩定性和可重復性超導結。 預處理腔：襯底旋轉、傾斜（3D）；干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T 蒸發鍍膜腔：電子槍6-15KW； 樣品臺：可加載4英寸襯底； 襯底可加熱到800℃ 襯底旋轉、傾斜， 傾斜精度和重復性優于0.1°（可升***） 真空泵系統：干泵 + 低溫泵； 真空度10-10T或10-11T 膜厚控制儀：頻率分辨率10-4Hz或更高； 速率分辨率10-3nm/s； 厚度分辨率10-2nm 殘余氣體分析儀 反應蒸鍍：氧氣氣路+MFC 氧化腔體：靜態/動態氧化 臭氧發生器/原子氧發生源/輝光放電； 鹵素燈加熱至200℃ 殘余氣體分析儀 分子泵 + 干泵；真空度<10-8 T 全自動軟件包，支持半自動和手動模式，支持遠程網絡操作和維護。 典型用戶：耶魯大學、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大學 | 
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