（8）掩模相對于樣片運動行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; Thelta: ±6°；
（9）汞燈功率：1000W（直流）；
（10）曝光能量密度：≥ 15mW/cm 2 ；
（11）曝光峰值波長:365nm；
（12）曝光方式：定時（***方式 0.1s—999.9s）；
（13）調平接觸壓力通過傳感器保證重復
（14）數字設定對準間隙和曝光間隙
（15）具備壓印模塊接口，也具備接近模塊接口
2．技術主要組成部分
（1）曝光頭系統包括:
。 冷光橢球鏡；
。德*** OSRAM1000W 直流高壓汞燈；
。XYZ 汞燈調節臺；
。 光學系統（冷光紫外平面反射鏡、快門、蠅眼透鏡組、冷光紫外拋物面反射鏡）；
。 冷卻風扇。
（2）對準工件臺系統包括:
。掩模樣片相對運動臺；
。（XY），轉動臺；
。 樣片調平機構；
。 樣片調焦機構；
。 承片臺 3 個： 4 英寸、6 英寸、8 英寸；
。 掩模夾 3 個：5 英寸、7 英寸、9 英寸。
（3）CCD 對準顯微鏡系統包括:
。4 倍顯微鏡 2 只；
。照明光源 2 套；
。 CCD 相機 2 只；
。22 英寸液晶顯示器。
（5）電控系統：
。 汞燈觸發電源(1000W)；
。 單片機控制系統；
。 控制柜桌。
（6）氣動系統系統包括:
。氣缸、電磁閥、減壓閥、氣動開關，電磁閥驅動，氣動儀表等
（7）其他配置與附件
。真空泵***臺；
?？諌簷C***臺；
。 配套氣管 10m
滬公網安備31011502016460號
