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 氧化硅薄膜窗

氧化硅薄膜窗

RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列產(chǎn)品。與氮化硅相比，氧化硅更易遭受化學侵蝕，且堅固性更差。但在X-射線顯微鏡中，由于沒有N原子存在而倍受青睞。

氧化硅與氮化硅薄膜窗比較

相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，則會與樣本造成混淆。

RISUN氧化硅薄膜窗特點

許多研究納米微粒，特別是含氮納米微粒的人員發(fā)現(xiàn)此種薄膜窗格在他們實驗中不可缺少。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸極小，此項研究人員也同樣會發(fā)現(xiàn)SPI氧化硅薄膜窗格的價值。

·         SEM應(yīng)用中，薄膜背景不呈現(xiàn)任何結(jié)構(gòu)和特點。

·         X射線顯微鏡中，裝載多個分析樣的方法。

·         無氮

RISUN氧化硅薄膜窗規(guī)格

硅片厚度：200um、381um、525um；

定制系列

RISUN也可以根據(jù)用戶需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。

本產(chǎn)品為***次性產(chǎn)品，不建議用戶重復(fù)使用；本產(chǎn)品不能進行超聲清洗，適合化學清洗、輝光放電和等離子體清洗。

應(yīng)用簡介

實際上，RISUN氧化硅薄膜應(yīng)用范圍非常廣，但所有應(yīng)用都有無氮要求（因樣本中有氮存在）：

1. 惰性基片可用于高溫環(huán)境下，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下）對反應(yīng)進行動態(tài)觀察。

2. 作為耐用（如“強力”）基片，***先在TEM下，然后在SEM下對同***區(qū)域進行“匹配”。

3. 作為耐用匹配基片，對AFM和TEM圖像進行比較。

4. 聚焦離子束（FIB）樣本的裝載。

5．用作Ti、V、Mo等濾光器基質(zhì)；用于X-射線光學設(shè)備中，如分光器

定制服務(wù)：本公司接受特殊規(guī)格的產(chǎn)品預(yù)訂，價格從優(yōu)。